Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
ion sputterer — jonų dulkintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Ionensputterreaktor — jonų dulkintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Ionenzerstäubungsanlage — jonų dulkintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
jonų dulkintuvas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
réacteur de pulvérisation ionique — jonų dulkintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
установка для ионного распыления — jonų dulkintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion sputterer; ion sputter reactor vok. Ionensputterreaktor, m; Ionenzerstäubungsanlage, f rus. установка для ионного распыления, f pranc. réacteur de pulvérisation ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
